产品中心
Product Center
功能型化学品
产品名称
英文名
应用行业
产品介绍
冷却剂
Silicon wafer cutting fluid
半导体、光伏行业
又叫切割液，是一种用于硅片切割加工过程中润滑和冷却的液体。
分散剂
Silicon wafer lappping agent
半导体、光伏行业
又叫研磨液，用于硅片研磨制程，主要作用是改善硅片表面平整度、降低硅片厚度、提高硅片尺寸精度。
表面活性剂
Cleaning agent for silicon wafers after cutting process
半导体、光伏行业
用于硅片切割后的清洗，主要作用是清除砂浆污染物及螯合金属离子。
抛光清洗剂
Cleaning agent for polished silicon wafers
半导体、光伏行业
用于硅片抛光后的清洗，彻底清除抛光工序残留的污染物，确保硅片表面达到高洁净度与理想物理状态，从而保障后续工艺的可靠性与器件性能。
硅料清洗剂
Silicon cleaning agent
半导体、光伏行业
针对N型硅料，对拉晶、切片时产生的墩锅料、边皮料、头尾料等进行清洗，主要污染物包括硅泥、氧化色、油污、油墨、粘接胶、金属离子等。
光伏切割液
Solar Photovoltaic Silicon Cutting Fluid
半导体、光伏行业
光伏切割液是专用于光伏产业晶硅切割领域的功能性液体，其核心作用是通过润滑、冷却和排屑功能，确保硅片切割的精度与表面质量。
制绒添加剂
texturing additive
半导体、光伏行业
太阳能电池片制造过程中用于在硅片表面形成特殊绒面结构的一类化学助剂，其主要作用是提升电池片对太阳光的捕获能力，从而最终提高光电转换效率。
碱抛添加剂
Alkaline polishing additive
半导体、光伏行业
在碱性抛光工艺中通过调控腐蚀选择性实现高效抛光，并提升表面平整度与反射率。
绒面修饰剂
structure optimizing additive
半导体、光伏行业
是一类用于优化硅片表面“绒面”结构的化学添加剂。这些产品通过形成更均匀、细密的绒面结构，来降低硅片表面的反射率，从而提升电池的光电转换效率。
硅片清洗剂
Cleaning agent for silicon wafers after cutting process
半导体、光伏行业
用于切割制程后硅片的清洗，去除硅片表面的氧化膜和沉积在其中的颗粒及其他污染物。
碱刻添加剂
the additive of silicon wafer etching
半导体、光伏行业
利用高浓度碱对硅的不同晶面的各向同性腐蚀，搭配碱刻添加剂调节反应速率，得到较为均匀的N区及合适的P/N高度。
topcon碱抛添加剂
TOPCon alkaline polishing additive
半导体、光伏行业
去除绕度腐蚀高缺陷或杂质区域，消除硅片表面的机械损伤和晶格缺陷，减少光反射损失。
慢提拉添加剂
slow lifting additive
半导体、光伏行业
用于增强硅片的疏水能力，降低硅片表面组分残留。
多晶硅清洗剂
Polysilicon cleaning agent
半导体、光伏行业
用于小尺寸3-8mm的原生多晶硅料的清洗，去除硅料表面的粉尘，满足清洗后硅料表面总金属在1ppb以下的目标。
返工片清洗剂
Rework sheet cleaning agent
半导体、光伏行业
主要用于在制造过程中清洗和修复被污染的硅片（即返工片），使其能够重新进入生产线，从而降低生产成本。
polyfinger添加剂
polyfinger
半导体、光伏行业
将poly层的厚度调整为电极下方较厚、非电极区域较薄的结构，从而平衡钝化、降低接触电阻和光电转换之间的关系，从而提高电池效率。
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